Microscope MEB-FIB Helios Nanolab 660

Ce microscope fait partie du parc instrumental de l'EquipEx MatMeca (ANR-10-EQPX-37) qui répond aux problématiques d'élaboration et de caractérisation des matériaux destinés aux secteurs de l’énergie, des transports, de l’espace, des nanotechnologies et des biomatériaux.

Caractéristiques techniques

• Canon à émission de champ (FEG)
• Colonne électronique fonctionnant de 500 V à 30 kV
• Mode imagerie en haute résolution permettant une résolution allant jusqu’à 0,7 nm en basse tension
• 7 différents détecteurs pour l’imagerie électronique.
• Colonne ionique Ga+ pour un usinage de haute précisionjusqu’à 30 kV
• Analyse cristallographique (EBSD)
• Analyse chimique (EDS)

Équipements principaux pour la caractérisation cristallographique et chimique

• Caméra EBSD EDAX Hikari XP ;
• Détecteur EDS EDAX Octane super 30mm² ;
• Logiciel TEAM et OIM DC pour l’acquisition ;
• Logiciel OIM Analysis pour l’analyse ;
• Logiciel EDS3 et EBS3 pour l’acquisition automatisée EDS et EBSD en 3D.

Platines pour essais in-situ

• Platine de traction/compression/flexion de capacité 20 N (partenariat LMS) ;
• Platine de traction/compression/flexion de capacité 0,5 N ;
• Platine Protochips Fusion pour analyse électro-thermique in-situ.

Autres équipements

• Quickloader pour l’insertion rapide de vos échantillons ;
• Plasma cleaner pour le nettoyage de vos échantillons ;
• Piège froid pour l’amélioration du vide de la chambre ;
• Monochromateur sur la colonne électronique ;
• Platine de décélération de faisceau pour les images à très basse tension ;
• Injecteur de gaz MultiChem équipé de platine, carbone, tungstène et H2O/Selective Carbon Mill ;
• Nanomanipulateur Easylift.

Autres logiciels disponibles

• NanoBuilder / NanoArchitect pour l’automatisation de vos gravures ou dépôts complexes ;
• AutoSlice&View G3 pour vos caractérisations en imagerie électronique 3D.